Equipement de dépôt par couche atomique (ALD) entièrement automatique - ALD Tool for advanced metal and metal nitrides

Dans le cadre de ses activités de recherche visant à développer des technologies SOI à épuisement total de 10 nm et au-delà, le CEA-LETI souhaite acquérir un équipement de dépôt par couche atomique (ALD) entièrement automatique.

Cet équipement devra principalement traiter des plaquettes de 300 mm (ou de 200 mm à l’aide de supports 200-300 mm). Il est destiné au dépôt de métaux ainsi que de nitrures métalliques pour les mémoires non volatiles et les contacts avancés. Cet équipement devra également inclure une solution de nettoyage afin d’améliorer la qualité de surface avant le dépôt de métaux et de nitrures métalliques.