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En cours Appel d'offres ouvert Réf: 26-12969

Fourniture d’un équipement de gravure par plasma – RIE (Reactive Ion Etching)

article Avis de marché complet

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Acheteur

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Nom

Centre National de la Recherche Scientifique

SIRET

18008901303720

Adresse

38000 25 Av. des martyrs

Contact

Pôle Achat Marché

Téléphone

0476889095

Email

a.sfc-marche@dr11.cnrs.fr

Type d'acheteur

Cga

Activité principale

Éducation

description

Objet du marché

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Référence

AOO-13-2025

Intitulé

Fourniture d’un équipement de gravure par plasma – RIE (Reactive Ion Etching)

Description

Fourniture d’un équipement de gravure par plasma – RIE (Reactive Ion Etching)

Nature du marché

Fournitures

CPV principal

22520000

CPV additionnels

38000000

Lieu(x) d'exécution (NUTS)

FRK24

gavel

Procédure

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Type de procédure

Procédure ouverte

Date limite de réception des offres

2026-03-23+01:00 à 12:30:00+01:00

checklist

Conditions

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Financement UE

Non financé par l'UE

Validité des offres

90

Conditions d'exécution

Conditions de performance

Facturation électronique

Obligatoire

Durée du marché

4

description Objet du marché

Fourniture d’un équipement de gravure par plasma – RIE (Reactive Ion Etching)

auto_awesome Résumé IA du RC

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engineering Résumé IA du CCTP 2 crédits

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view_agenda Allotissement (1 lots)

01 Fourniture d’un équipement de gravure par plasma – RIE (Reactive Ion Etching) Actif expand_more
Code CPV
tag 22520000 — Matériel de gravure sèche
schedule Durée : 48 mois

Fourniture d’un équipement de gravure par plasma – RIE (Reactive Ion Etching), réalisation de son installation en salle blanche et tenue des tests de validation, délivrance d'une formation et remise de la documentation technique associée.

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