Fourniture d’un équipement de gravure par plasma – RIE (Reactive Ion Etching)
article Avis de marché complet
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Acheteur
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- Nom
-
Centre National de la Recherche Scientifique
- SIRET
-
18008901303720
- Adresse
-
38000 25 Av. des martyrs
- Contact
-
Pôle Achat Marché
- Téléphone
-
0476889095
-
a.sfc-marche@dr11.cnrs.fr
- Profil acheteur
- https://www.marches-publics.gouv.fr/entreprise
- Type d'acheteur
-
Cga
- Activité principale
-
Éducation
description
Objet du marché
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- Référence
-
AOO-13-2025
- Intitulé
-
Fourniture d’un équipement de gravure par plasma – RIE (Reactive Ion Etching)
- Description
-
Fourniture d’un équipement de gravure par plasma – RIE (Reactive Ion Etching)
- Nature du marché
-
Fournitures
- CPV principal
-
22520000
- CPV additionnels
-
38000000
- Lieu(x) d'exécution (NUTS)
-
FRK24
gavel
Procédure
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- Type de procédure
-
Procédure ouverte
- Date limite de réception des offres
-
2026-03-23+01:00 à 12:30:00+01:00
checklist
Conditions
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- Financement UE
-
Non financé par l'UE
- Validité des offres
-
90
- Conditions d'exécution
-
Conditions de performance
- Facturation électronique
-
Obligatoire
- Durée du marché
-
4
description Objet du marché
Fourniture d’un équipement de gravure par plasma – RIE (Reactive Ion Etching)
auto_awesome Résumé IA du RC
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engineering Résumé IA du CCTP 2 crédits
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view_agenda Allotissement (1 lots)
01 Fourniture d’un équipement de gravure par plasma – RIE (Reactive Ion Etching) Actif expand_more
Fourniture d’un équipement de gravure par plasma – RIE (Reactive Ion Etching), réalisation de son installation en salle blanche et tenue des tests de validation, délivrance d'une formation et remise de la documentation technique associée.
folder_open Documents de consultation (DCE)
Dossier de Consultation des Entreprises
Disponible sur le profil acheteur