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En cours Appel d'offres ouvert Réf: 26-12969

Fourniture d’un équipement de gravure par plasma – RIE (Reactive Ion Etching)

description Objet du marché

Fourniture d’un équipement de gravure par plasma – RIE (Reactive Ion Etching)

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engineering Résumé IA du CCTP 2 crédits

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account_balance Acheteur

Nom
Centre National de la Recherche Scientifique
SIRET
18008901303720
Adresse
38000 25 Av. des martyrs
Contact
Pôle Achat Marché
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description

Objet du marché

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Référence
AOO-13-2025
Intitulé
Fourniture d’un équipement de gravure par plasma – RIE (Reactive Ion Etching)
Description
Fourniture d’un équipement de gravure par plasma – RIE (Reactive Ion Etching)
Nature du marché
Fournitures
CPV principal
22520000
CPV additionnels
38000000
Lieu(x) d'exécution (NUTS)
FRK24
gavel

Procédure

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Type de procédure
Procédure ouverte
Date limite de réception des offres
2026-03-23+01:00 à 12:30:00+01:00
checklist

Conditions

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Financement UE
Non financé par l'UE
Validité des offres
90
Conditions d'exécution
Conditions de performance
Facturation électronique
Obligatoire
Durée du marché
4

view_agenda Allotissement (1 lots)

01 Fourniture d’un équipement de gravure par plasma – RIE (Reactive Ion Etching) Actif expand_more
Code CPV
tag 22520000 — Matériel de gravure sèche

Fourniture d’un équipement de gravure par plasma – RIE (Reactive Ion Etching), réalisation de son installation en salle blanche et tenue des tests de validation, délivrance d'une formation et remise de la documentation technique associée.

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