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Appel d'offres ouvert
Réf: 26-12969
Fourniture d’un équipement de gravure par plasma – RIE (Reactive Ion Etching)
description Objet du marché
Fourniture d’un équipement de gravure par plasma – RIE (Reactive Ion Etching)
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engineering Résumé IA du CCTP 2 crédits
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article Avis de marché complet
account_balance Acheteur
- Nom
- Centre National de la Recherche Scientifique
- SIRET
- 18008901303720
- Adresse
- 38000 25 Av. des martyrs
- Contact
- Pôle Achat Marché
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description
Objet du marché
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- Référence
- AOO-13-2025
- Intitulé
- Fourniture d’un équipement de gravure par plasma – RIE (Reactive Ion Etching)
- Description
- Fourniture d’un équipement de gravure par plasma – RIE (Reactive Ion Etching)
- Nature du marché
- Fournitures
- CPV principal
- 22520000
- CPV additionnels
- 38000000
- Lieu(x) d'exécution (NUTS)
- FRK24
gavel
Procédure
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- Type de procédure
- Procédure ouverte
- Date limite de réception des offres
- 2026-03-23+01:00 à 12:30:00+01:00
checklist
Conditions
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- Financement UE
- Non financé par l'UE
- Validité des offres
- 90
- Conditions d'exécution
- Conditions de performance
- Facturation électronique
- Obligatoire
- Durée du marché
- 4
view_agenda Allotissement (1 lots)
01 Fourniture d’un équipement de gravure par plasma – RIE (Reactive Ion Etching) Actif expand_more
Code CPV
tag
22520000 — Matériel de gravure sèche
Fourniture d’un équipement de gravure par plasma – RIE (Reactive Ion Etching), réalisation de son installation en salle blanche et tenue des tests de validation, délivrance d'une formation et remise de la documentation technique associée.
folder_open Documents de consultation (DCE)
description
Dossier de Consultation des Entreprises
Disponible sur le profil acheteur
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